中国China ● 上海 Shanghai ● 2007年8月23日(13:30-17:00)

上海张江体育休闲中心 SHANGHAI ZHANGJIANG CLUB
上海张江高科技园区春晓路81号 
81 Chunxiao Rd. Zhangjiang Hi-tech, Park, Pudong, Shanghai

技术性参考议题:
◆ 光刻技术的发展和挑战
◆ 湿浸式光刻技术
◆ 针对300mm晶圆的光刻设备和材料
◆ X光曝光设备/离子投影曝光设备
◆ 光刻胶及其应用
◆ 光刻光源
◆ 光掩膜
◆ 先进封装和MEMS应用的超厚膜光刻技术
◆ 下一代光刻技术,如EUV, EPL, VUV, NIL……
◆ 由光刻引发的良率问题和掩模设计
◆ 以RET/OPC为核心的DFM

圆桌论坛拟定议题:
◆ 世界纳米级光刻技术的最新进展(综合报告)
◆ 超深亚微米光刻技术的交流
◆ 纳米级光刻技术探讨,对其工艺制程、设备及材料发展状况的评估
◆ 65纳米与45纳米光刻技术展望与实现
◆ 光刻设备及材料的国产化道路
◆ 纳米级光刻对集成电路设计相关性及合格率的探讨

订票须知 Registration Notes
晶圆厂、面板制造厂工程师免费
设备/材料供应商RMB300元/人,2人:RMB500元(可接受现场付费)
Registration Fee: RMB300/person. Two persons: RMB500

详细内容请参考please visit: www.cleanrooms-china.com
更多咨询请致电 For inquiry, please call:
张强/Joe Zhang   joez@actintl.com.hk
蔡双华/Sunny Cai  sunnyc@actintl.com.hk
Tel: 86-21-62511200




先进光刻技术讲座暨圆桌论坛
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